ガスの説明
六フッ化硫黄は、無色、無臭、無毒、不燃性の安定したガスです。 化学式SF ₆ は分子量146.07、密度は20℃、0.1MPaで6.1kg/m3で空気の約5倍です。 六フッ化硫黄は室温常圧では気体状態であり、大気圧での臨界温度は45.6℃、三重点温度は-50.8℃、昇華点温度は-63.8℃です。 六フッ化硫黄の分子構造は八面体状に配列しており、結合距離が短く、結合エネルギーが高くなります。 したがって、その安定性は非常に高いです。 180℃以下の温度であれば、電気構造材料との適合性は窒素ガスと同等です。
六フッ化硫黄の主な用途
1. 新世代の超高圧絶縁誘電体材料。 優れたガス絶縁体として、電子・電気機器のガス絶縁に広く使用されています。 電子グレードの高純度六フッ化硫黄は、コンピューターチップやLCDスクリーンなどの大型集積回路の製造におけるプラズマエッチングおよび洗浄剤として、マイクロエレクトロニクスの分野で広く使用されている理想的な電子エッチング液です。 光ファイバーの製造におけるフッ素ドープガラスの製造におけるフッ素源として、また低損失の高品質シングルモードファイバーの製造における絶縁層のドーパントとして使用されます。 窒素エキシマレーザーのドーピングガスとしても使用できます。 気象、環境監視、その他の部門でトレーサー、標準ガス、または調製された標準混合物として使用されます。 高圧開閉器の大容量変圧器や消弧用の絶縁材として使用されます。 粒子加速器や避雷器にも使用できます。 化学的安定性が良く、機器を腐食しないため、冷凍業界の冷媒として使用できます（使用温度は-45～0℃）。 α線の懸念から 阻止能力が高く、放射化学にも使われています。 さらに、鉱山の石炭粉塵からの酸素を置換する吸着防止剤としても機能します。
2. 非鉄金属の製錬および鋳造プロセス、ならびに溶融アルミニウムおよびその合金の脱ガスおよび精製に使用できます。 マイクロエレクトロニクス産業では、六フッ化硫黄を使用してシリコン表面をエッチングし、半導体材料から有機または無機の膜状物質を除去します。 光ファイバーの製造工程における単膜ファイバー分離層のドーピング剤としても使用できます。 六フッ化硫黄を使用した電流遮断器は定格電圧が高く、燃えにくいです。 さらに、六フッ化硫黄は、各種加速器、超高圧蓄電装置、同軸ケーブル、マイクロ波伝送などの絶縁媒体としても使用されています。 現在、六フッ化硫黄は大気汚染を測定するために広く使用されているトレーサーであり、追跡距離は最大 100 km です。 六フッ化硫黄は化学的安定性に優れ、機器を腐食しません。 冷凍業界（使用温度-45～0℃）においてフロンに代わる冷媒として使用できます。 オゾン層に破壊的な影響を与えず、環境保護と性能の要件を満たしています。 大きな開発可能性を秘めた冷媒です。 電気絶縁媒体や消弧剤、大気汚染度を測定するトレーサーとして使用されます。
3. 主に高圧開閉器の消弧用、大容量変圧器や高圧ケーブルの絶縁材として使用されます。 核粒子加速器や避雷器X線装置のガスの断熱材として使用できます。 SF6 は化学的安定性に優れており、機器を腐食しません。 冷凍業界の冷媒として使用できます（動作温度は-45〜0℃）。SF6ペアα粒子は高い阻止能力を持っているため、放射化学にも応用されています。 鉱山の石炭粉塵から酸素を置き換えるための吸着剤としても使用できます。
4. 電子機器やレーダー導波管のガス絶縁体として使用されます。
