電子混合ガスは、大規模集積回路（LSI）、超大規模集積回路（VLSI）、半導体デバイスの製造に広く使用されています。 主に気相エピタキシー（製造）、化学蒸着、ドーピング（不純物拡散）、各種エッチング、イオン注入プロセスで使用されます。
電子混合ガスなしの概要
1. ジクロロシラン (DCS) 5000ppm+N2; ジクロロシラン(DCS) 15ppm+N2
2 ジクロロシラン(DCS) 10ppm+トリクロロシラン(TCS) 10ppm+ヘリウム
3 HCl 50ppm+ジクロロシラン(DCS) 1000ppm+平衡He
4 シラン 1%+ジクロロシラン (DCS) 1%+トリクロロシラン (TCS) 1%+テトラクロロシラン 1%+窒素
5 シラン 50ppm+トリクロロシラン (TCS) 1000ppm+He
6 トリクロロシラン (TCS) 15ppm+N2
7 エチルシラン (Si2H4) 100ppm～200ppm+H2
8 エチルシラン 10ppm+He
9 CO2 5ppm+シラン 135ppm+エチルシラン 1000ppm+He
10 SiH4 5ppm~15%+Ar (H2/N2/He)
11 H2 5ppm+Ar 5ppm+N2 5ppm+CO 5ppm+CH4 5ppm+CO2 の平衡 He 5ppm+シラン 1000ppm
12 エチルボラン 50-100ppm+H2
13 アルセナン 100ppm~0.7%+H2
14 ゲルマン 1%~10%+H2
15 三塩化ホウ素 1%~5%+N2(He)
16 PH3 0.8ppm～500ppm+He(H2)
17 HCI 9ppm~50%+N2
18 NF3 99.99% 180g~1500g
19 NF3 20ppm～30ppm+空気
20 NF3 15ppm+N2
21 CF4 80%+O2
22 Ar 5ppm~80%+Ne (H2/He/N2)
DKK 23 8%~50%+年
24 なし 80%~97%+Ar
